PVD镀膜工艺与溅射镀工艺的区别

时间：2020-07-20 点击数：

在手机盖板领域，PVD镀膜装饰工艺的应用越来越广，无论在金属、玻璃、陶瓷及复合材料后盖上，都需要PVD镀膜，来提升手机盖板的颜值及逼格，那么如何通过镀膜来提升产品的靓丽与品位呢？有哪些主流的工艺？今天我们来了解一下。

一、手机非金属材料如何通过PVD镀膜来提升靓丽与品位？

1. 玻璃内表面镀反光膜

2. 玻璃外表面镀AG、AF膜，增加手感，内表面镀颜色膜

3. 复合板材镀反蓝光（冰焰蓝）

3. 氧化锆陶瓷及玻璃盖板外表面镀膜

PVD镀膜主要分为蒸发镀、溅射镀和离子镀。今天，我们主要来比较一下蒸发镀与溅射镀。

蒸发镀膜，是将膜料加热蒸发为气相后沉积到衬底表面，此种成膜方式决定了蒸发出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev，原子动能太低，填充密度太低。

电子束蒸发的不稳定性及其内在机理：

影响种类	问题点	内在机理
温度	成膜温度影响产品颜色	温度高填充密度高，漂移少
真空室氧化能力的影响	大清洗前波长偏长，之后偏短	水蒸气可以认为就是氧气。镀膜速度直接影响氧化能力，即膜层中金属或低价氧化物的比例。 *从坩埚里蒸发出来的物质是高价氧化物、低价氧化物和金属单体的混合物，更多的金属单体或低价氧化物在充大气后会俘获更多的氧原子，使膜层致密。
空气湿度大时膜层颜色不好控制
开炉时间长波长偏长
镀膜慢波长偏长
膜料分解状况的影响	貌似电子枪光斑大小有影响	光斑位置影响光斑大小。灯丝变形也会带来光斑大小的变化。扫描足够快时是面蒸发，慢时依旧点蒸发，这当然也相当于“光斑大小”问题。光斑小，蒸发区域温度高，材料分解严重，金属单体和低价氧化物比例更高。
貌似光斑位置也有影响
貌似灯丝变形也有影响
貌似扫描快慢也有影响
………

磁控溅射镀膜，通过在靶材与真空室壁之间施加电场，使氩气电离，并使氩离子加速撞击靶材表面。靶材被亚离子撞击，靶材原子溢出并以数十甚至上百电子伏特的动能飞向被镀基片表面并沉积在基底表面，原子动能较蒸发高出两个数量级，填充密度高达98%，折射率高且稳定。