PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理气相沉积）的缩写,因其具有沉积速度快,膜层附着力强,绕性好,表面清洁,可镀材料较多等多项优点.是目前国际上常用的较先进的表面处理技术.该技术较广应用于航空航天,电子,光学,机械,建筑,轻工,冶金,材料等领域，可制备具有耐磨,耐腐蚀,装饰,导电,绝缘,光导,压电,磁性,润滑,超导等特性的膜层.PVD镀膜腔体
物理气相沉积是通过蒸发，电离或溅射等过程，产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面.物理气象沉积方法有真空镀，真空溅射和离子镀三种，应用较广的是离子镀。

物理气相沉积技术早在20世纪初已有些应用，但30年迅速发展，成为一门极具广阔应用前景的新技术，并向着环保型,清洁型趋势发展.20世纪90年代初至今，在钟表行业，尤其是较好手表金属外观件的表面处理方面达到越来越为较广的应用.
物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤:
(1)镀料的气化:即使镀料蒸发，异华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。

(2)镀料原子,分子或离子的迁移:由气化源供出原子,分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。

(3)镀料原子,分子或离子在基体上沉积。真空环境条件是影响最终涂层质量最重要的因素。

镀膜前,必须进行压升率测试,以保证真空环境条件进而满足镀膜的标准。在我们的自动真空镀膜工艺中,压升率测试是自动进行的。当真空室内真空度达到工艺设定的保底真空后,进入压升率测试步骤。这时系统会自动关闭高阀,真空室与泵组隔离,真空室内压力会升高.一般1分钟内如果压力不超过设定的预警值,系统就会自动进入镀膜步骤.如果压力超过设定的预警值,系统就会有报警提示,这时操作人员应按照操作流程,再次进行抽真空和加热烘烤,重复进行压升率测试,直到压升率满足镀膜条件。真空蒸镀基本原理是在真空条件下，使金属,金属合金或化合物蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，高频感应加热，电子束,激光束,离子束高能轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历史上，真空蒸镀是PVD法中使用最早的技术。