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真空镀膜主要方法

时间:2022-07-24    点击数:

真空镀膜使用是镀膜使用中的一个大分支,在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及外表处理技能等众多方面有着非常广泛的使用。为了让我们更具体的了解真空镀膜的使用,今天小编具体为我们介绍真空镀膜使用的首要几种方法,期望对我们有用!


真空镀膜使用,简单地理解就是在真空环境下,使用蒸镀、溅射以及随后凝聚的办法,在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。相对于传统镀膜方法,真空镀膜使用归于一种干式镀膜,它的首要方法包括以下几种:


真空蒸镀

其原理是在真空条件下,用蒸腾器加热带蒸腾物质,使其气化或升华,蒸腾离子流直接射向基片,并在基片上堆积析出固态薄膜的技能。


溅射镀膜

溅射镀膜是真空条件下,在阴极接上2000V高压电,激发辉光放电,带正电的氩离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过慵懒气氛堆积到基片上构成膜层。


离子镀膜

即干式螺杆真空泵厂家已经介绍过的真空离子镀膜。它是在上面两种真空镀膜技能基础上发展而来的,因此兼有两者的工艺特点。在真空条件下,使用气体放电使工作气体或被蒸腾物质(膜材)部分离化,并在离子炮击下,将蒸腾物或其反响物堆积在基片外表。在膜的构成过程中,基片一直遭到高能粒子的炮击,非常清洁。


真空卷绕镀膜

真空卷绕镀膜是一种使用物理气相堆积的方法在柔性基体上接连镀膜的技能,以实现柔性基体的一些功能性、装饰性特点。


本文网址:http://www.ztpvd.com/news/577.html

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