普通电镀和PVD（Physical Vapor Deposition，物理气相沉积）电镀是两种不同的金属表面处理技术，它们在原理、应用范围和特点上都有所不同。

普通电镀是一种常用的金属表面处理工艺，通过在金属表面上电化学反应的方式，将其他金属沉积在其表面，形成一层均匀、致密、具有特定性能的金属薄膜。这种技术的原理主要包括阳极溶解、阴极沉积和金属离子运移等过程。普通电镀的主要用途包括保护金属表面，防止其被氧化、腐蚀、划伤或磨损，从而延长金属的使用寿命。此外，普通电镀还可以提高金属表面的硬度、耐磨性和美观度。普通电镀适用于各种金属制品的表面处理，如镀锌、镀铬等，具有广泛的应用范围。

相比之下，PVD电镀是一种先进的表面处理工艺，通过物理气相沉积技术在金属表面形成一层薄膜。这种技术的工作原理是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。PVD镀膜中常用的靶材包括金属、合金、陶瓷等材料。PVD电镀形成的薄膜具有高硬度、高耐磨性、高耐腐蚀性等特点，而且PVD电镀对环境友好，不会产生有毒有害的物质。因此，PVD电镀适用于各种高精度、高要求的表面处理场景，如汽车零部件、医疗器械等领域。

总的来说，普通电镀和PVD电镀各有特点，需要根据实际需求进行选择。对于一些要求不高、成本有限的场景，普通电镀是一种经济实惠的选择；而对于一些要求高精度、高耐磨、高耐腐蚀的应用场景，PVD电镀则更为适用。