真空离子镀膜的原理和特点
在真空条件下,利用气体放电使气体或蒸发物质离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时,把蒸发物或其反应物蒸断在 基片上。离子锻把辉光放电、等离子体技术与真空...
2024-01-19 查看详情18913268389汤生
在真空条件下,利用气体放电使气体或蒸发物质离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时,把蒸发物或其反应物蒸断在 基片上。离子锻把辉光放电、等离子体技术与真空...
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2024-01-18 查看详情在电镀行业发展的背景下,出现了越来越多的问题,如粉尘危害、环境污染、触电危险等等。传统的水电镀(简称水镀)不仅对环境造成较大的污染,还对人体也造成较大的伤害...
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2024-01-16 查看详情PVD(PhysicalVaporDeposition,PVD)即物理/气相沉积技术,由于其具有材料适应性好、工艺温度低、成膜速度快、镀膜组织致密、与基体结合...
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2024-01-11 查看详情189-1326-8389 在线咨询
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