PVD产品优势、特点介绍:
PVD 技术(物理气相沉积Physical Vapor Deposition) ，是目前国际上科技含量高且被广泛应用的离子镀膜技术，它具有镀膜层致密均匀、附着力强、绕射性好、沉积速度快、处理温度低、可镀材料广泛等特点，是表面处理工程领域较佳的选择。PVD 技术包括真空蒸镀、溅射膜和离子膜。PVD 本身镀膜过程是高温状态下，等离子场下的辉光反应，亦是一个高净化处理过程；镀层的原材料有钛、铬、不锈钢、石墨、钛铝等根据客户的需要来加以选择，PVD技术是一种真正无污染的环保型表面处理方法。采用磁控离子溅射镀及多弧离子镀等先进绿色环保真空镀膜工艺，并与其它表面处理效果：如拉丝、高光（机械抛光）、麻面（喷砂）、亚光、雷雕等相结合大大增加了产品的附加值。
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